Ang SLA (Stereolithography) usa ka additive nga proseso sa paggama nga nagtrabaho pinaagi sa pagpunting sa usa ka UV laser sa usa ka vat sa photopolymer resin. Sa tabang sa computer aided manufacturing o computer aided design(CAM/CAD) software, ang UV laser gigamit sa pagdrowing ug pre-programmed nga disenyo o porma sa ibabaw sa photopolymer vat. Ang mga photopolymer sensitibo sa ultraviolet nga kahayag, mao nga ang resin kay photochemically solidified ug nagporma og usa ka layer sa gusto nga 3D nga butang. Kini nga proseso gisubli alang sa matag layer sa disenyo hangtod makompleto ang 3D nga butang.
Ang CARMANHAAS mahimong magtanyag sa kustomer sa optical system nga nag-una naglakip sa paspas nga Galvanometer Scanner ug F-THETA scan lens, Beam expander, Mirror, ug uban pa.
355nm Galvo Scanner Ulo
| Modelo | PSH14-H | PSH20-H | PSH30-H |
| Tubig cool/sealed scan ulo | oo | oo | oo |
| Aperture (mm) | 14 | 20 | 30 |
| Epektibo nga Anggulo sa Pag-scan | ± 10° | ± 10° | ± 10° |
| Sayop sa Pagsubay | 0.19 ms | 0.28ms | 0.45ms |
| Lakang nga Panahon sa Pagtubag (1% sa tibuuk nga sukod) | ≤ 0.4 ms | ≤ 0.6 ms | ≤ 0.9 ms |
| Tipikal nga Speed | |||
| Posisyon / paglukso | < 15 m/s | < 12 m/s | <9 m/s |
| Pag-scan sa linya/pag-scan sa raster | < 10 m/s | < 7 m/s | < 4 m/s |
| Kasagaran nga pag-scan sa vector | < 4 m/s | < 3 m/s | < 2 m/s |
| Maayong kalidad sa Pagsulat | 700 cps | 450 cps | 260 cps |
| Taas nga kalidad sa pagsulat | 550 cps | 320 cps | 180 cps |
| Katukma | |||
| Linearity | 99.9% | 99.9% | 99.9% |
| Resolusyon | ≤ 1 urad | ≤ 1 urad | ≤ 1 urad |
| Pagkabalikbalik | ≤ 2 urad | ≤ 2 urad | ≤ 2 urad |
| Pag-anod sa Temperatura | |||
| Offset Drift | ≤ 3 urad/℃ | ≤ 3 urad/℃ | ≤ 3 urad/℃ |
| Qver 8hours Long-Term Offset Drift （Pagkahuman sa 15min Warn-up） | ≤ 30 urad | ≤ 30 urad | ≤ 30 urad |
| Operating Temperatura Range | 25 ℃ ± 10 ℃ | 25 ℃ ± 10 ℃ | 25 ℃ ± 10 ℃ |
| Interface sa Signal | Analog: ± 10V Digital: XY2-100 nga protocol | Analog: ± 10V Digital: XY2-100 nga protocol | Analog: ± 10V Digital: XY2-100 nga protocol |
| Input Power Requirement (DC) | ± 15V@ 4A Max nga RMS | ± 15V@ 4A Max nga RMS | ± 15V@ 4A Max nga RMS |
355nmF-Theta Lentees
| Deskripsyon sa Bahin | Focal Length (mm) | Scan Field (mm) | Max Entrance Pupil (mm) | Distansya sa pagtrabaho (mm) | Pagbutang Thread |
| SL-355-360-580 | 580 | 360x360 | 16 | 660 | M85x1 |
| SL-355-520-750 | 750 | 520x520 | 10 | 824.4 | M85x1 |
| SL-355-610-840-(15CA) | 840 | 610x610 | 15 | 910 | M85x1 |
| SL-355-800-1090-(18CA) | 1090 | 800x800 | 18 | 1193 | M85x1 |
355nm Beam Expander
| Deskripsyon sa Bahin | Pagpalapad Ratio | Input CA (mm) | Output CA (mm) | Balay Dia(mm) | Balay Gitas-on(mm) | Pagbutang Thread |
| BE3-355-D30:84.5-3x-A(M30*1-M43*0.5) | 3X | 10 | 33 | 46 | 84.5 | M30*1-M43*0.5 |
| BE3-355-D33:84.5-5x-A(M30*1-M43*0.5) | 5X | 10 | 33 | 46 | 84.5 | M30*1-M43*0.5 |
| BE3-355-D33:80.3-7x-A(M30*1-M43*0.5) | 7X | 10 | 33 | 46 | 80.3 | M30*1-M43*0.5 |
| BE3-355-D30:90-8x-A(M30*1-M43*0.5) | 8X | 10 | 33 | 46 | 90.0 | M30*1-M43*0.5 |
| BE3-355-D30:72-10x-A(M30*1-M43*0.5) | 10X | 10 | 33 | 46 | 72.0 | M30*1-M43*0.5 |
355nm nga Salamin
| Deskripsyon sa Bahin | Diametro (mm) | Gibag-on (mm) | Pagtabon |
| 355 Salamin | 30 | 3 | HR@355nm, 45° AOI |
| 355 Salamin | 20 | 5 | HR@355nm, 45° AOI |
| 355 Salamin | 30 | 5 | HR@355nm, 45° AOI |
